因?yàn)閷I(yè)
所以領(lǐng)先
電子封裝陶瓷基板的制備工藝根據(jù)材料和需求差異分為多種技術(shù)路線,以下是主流工藝的流程及特點(diǎn):
高溫共燒陶瓷基板(HTCC)
流程:
特點(diǎn):熱導(dǎo)率高(20~200 W/m·K),但金屬選擇受限(高熔點(diǎn)金屬導(dǎo)電性差),成本較高。
將氧化鋁(Al?O?)或氮化鋁(AlN)陶瓷粉與黏結(jié)劑混合成漿料,刮片成型為生坯。
鉆導(dǎo)通孔后,通過(guò)絲網(wǎng)印刷金屬漿料(如鎢、鉬)布線。
多層疊加后在1600℃高溫?zé)Y(jié),形成多層結(jié)構(gòu)。
低溫共燒陶瓷基板(LTCC)
流程:
特點(diǎn):導(dǎo)電性好,但對(duì)位精度受絲網(wǎng)印刷限制,需增加導(dǎo)熱孔提升性能。
在Al?O?粉中摻入低熔點(diǎn)玻璃料,制成漿料流延成生坯。
絲網(wǎng)印刷金、銀等金屬漿料布線,燒結(jié)溫度降至850~900℃。
直接鍵合銅陶瓷基板(DBC)
流程:
特點(diǎn):導(dǎo)熱性優(yōu)異,但銅箔易翹曲,最小線寬>100μm。
氧化鋁基片與銅箔在1065℃高溫下共晶燒結(jié),形成Cu-Al?O?-Cu結(jié)構(gòu)。
化學(xué)刻蝕形成電路圖形。
直接電鍍銅陶瓷基板(DPC)
流程:
特點(diǎn):低溫工藝(<300℃),線路精度高,但結(jié)合強(qiáng)度較低,適用于大功率LED。
陶瓷基片表面濺射Ti/Cu種子層,光刻定義圖形后電鍍?cè)龊胥~層。
去除光刻膠,形成精細(xì)線路(線寬可達(dá)微米級(jí))。
其他工藝
活性金屬焊接(AMB):用稀土焊料(如Ti、Zr)實(shí)現(xiàn)銅-陶瓷焊接,鍵合溫度更低,適用于第三代半導(dǎo)體封裝。
激光活化金屬(LAM):激光直寫金屬化,精度高但成本高昂,主要用于航空航天。
陶瓷基板憑借其高導(dǎo)熱、絕緣及耐高溫特性,在多個(gè)領(lǐng)域發(fā)揮關(guān)鍵作用:
功率電子器件
IGBT模塊:DBC和AMB基板用于絕緣柵雙極晶體管封裝,耐受高電流和高溫。
電動(dòng)汽車:AMB基板匹配SiC器件的高功率需求,替代傳統(tǒng)DBC。
光電子與顯示
大功率LED:DPC基板因精細(xì)線路和低溫工藝成為主流。
激光二極管(LD):DBC基板用于散熱,保障激光器穩(wěn)定性。
航空航天與軍工
高頻器件:LTCC基板低介電常數(shù)特性適用于雷達(dá)和通信模塊。
氣密性封裝:氧化鋁基板用于衛(wèi)星和導(dǎo)彈等嚴(yán)苛環(huán)境。
消費(fèi)電子與汽車
MEMS傳感器:氧化鋁基板用于加速度計(jì)、壓力傳感器封裝,耐腐蝕且尺寸穩(wěn)定。
汽車電子:厚膜印刷基板(TPC)用于對(duì)精度要求不高的車載電路。
新能源與光伏
聚焦型光伏(CPV):HTCC基板高機(jī)械強(qiáng)度適配戶外高溫環(huán)境。
陶瓷基板的制備工藝需根據(jù)應(yīng)用場(chǎng)景選擇,如DBC/AMB側(cè)重高功率散熱,DPC/LTCC強(qiáng)調(diào)精度與靈活性。其應(yīng)用領(lǐng)域覆蓋從消費(fèi)電子到航空航天的廣泛需求,未來(lái)隨著第三代半導(dǎo)體和5G技術(shù)發(fā)展,陶瓷基板的市場(chǎng)潛力將進(jìn)一步釋放。
氧化鋁陶瓷基板氮化鋁陶瓷基板清洗的水基清洗劑
SP300是一種專用于氧化鋁、氮化鋁陶瓷基板清洗的水基清洗劑,配合超聲波清洗工藝,能有效去除陶瓷基板表面的激光鉆孔殘留、灰塵、油污等污垢,使陶瓷基板后續(xù)的金屬化具有良好的結(jié)合力。
上一篇:球柵陣列封裝的結(jié)構(gòu)、分類、應(yīng)用和發(fā)展趨勢(shì)及BGA···
下一篇:沒(méi)有了!